2024年9月，中科大前副院长朱士尧在一次访谈中，说出了一句引发全网热议的话：“美国造不出，中国永远都不可能”。

　　在中美科技较劲、美国一直卡我们半导体脖子，不让我们搞光刻机技术的情况下，这话听着就格外扎心。

　　很多人疑惑，作为一个见证并推动中国科技成长的行业前辈，他为什么要唱衰中国？

　　先说说朱士尧，他可不是随口发言的“键盘侠”。作为中科大物理学教授，还曾担任华为党委副书记，大半辈子泡在半导体研发圈，对我国科技的长短板，比普通人看得透彻百倍。

　　这句线年公开访谈时说的，当时中美科技摩擦正烈，美国为遏制中国芯片产业，禁止荷兰ASML向中国出口顶尖光刻机。

　　芯片是现代科技“心脏”，光刻机是造芯片的“核心设备”，没有顶尖光刻机就造不出高端芯片，美国想从根源上卡我们脖子，“中国能不能造光刻机”也成了全网最揪心的话题。

　　很多人一听这话就反感，觉得是唱衰中国科技，认为咱们只要肯投入，没有造不出来的东西。但只要稍微了解光刻机的研发难度，就会发现这话格外理性客观。

　　光刻机堪称人类工业技术的“巅峰之作”，比造还难，被称为“工业皇冠上的明珠”，它的难不在于单个零件制造，而在于把全世界最顶尖的零件完美整合，让它们协同运转。

　　一台顶尖EUV光刻机重超180吨，装着十多万个零部件，来自全球50多个国家、上千家供应商，堪称全球顶尖工业技术的“大集合”，少一个国家的核心零件都无法运转。

　　目前全球唯一能造顶尖EUV光刻机的是荷兰ASML，但它自己只生产15%的零件，核心能力是把各国高精尖零件精准整合调试，而非自产所有核心部件。

　　光刻机核心的13.5纳米极紫外光源，只有美国Cymer公司能造，研发耗时十几年，需用高功率激光每秒5万次轰击锡靶材；纳米级精密镜头，精度误差不超一根头发丝的万分之一，只有德国蔡司能造；高端光刻胶直接决定芯片精度和良率，目前被日本企业垄断，我国仍在全力攻关。

　　很多人觉得美国科技发达，造光刻机易如反掌，实则不然，美国现在也造不出完整的顶尖EUV光刻机。

　　上世纪90年代，美国科技企业觉得造光刻机投入大、回报周期长，不如做芯片设计、EDA软件等高利润领域，于是退出整机研发赛道，将其外包给ASML。

　　久而久之，美国丧失了光刻机整机组装调试能力，即便能造光源等零件，缺少德、日的核心部件和技术积累，也拼不出完整光刻机。

　　2025年底官方报道显示，美国曾试图重启光刻机自研，却发现需投入上千亿美元、耗时二三十年才能赶上ASML，最终因投入太大、周期太长不了了之。

　　所以“美国造不出”，不是指造不出零件，而是造不出完整顶尖EUV光刻机，无法独自掌控产业链。

　　至于“中国永远都不可能”，关键前提是“美国造不出”——只要全球产业链格局不变，连美国都造不出的核心零部件仍被西方垄断，中国就不可能单独造出顶尖EUV光刻机。

　　这不是否定我国科技实力，而是客观事实：光刻机研发从不是单个国家的“单打独斗”，核心部件被垄断，任何国家都难以独自突破。

　　2026年1月长三角半导体产业峰会官宣，上海微电子研发的28nm浸没式DUV光刻机，已进入中芯国际试产，良率稳定在90%以上，预计2026年全面量产。

　　DUV虽非顶尖，却能满足汽车电子、普通消费电子、物联网等领域的芯片需求，能解决我国很多领域的“卡脖子”问题，摆脱对进口光刻机的完全依赖。

　　此外，我国光刻机核心零部件国产化率已从30%提升至45%：科益虹源的193nm深紫外激光器实现量产，订单排到2026年底；华卓精科的纳米级双工件台国内市占率超60%，精度接近国际先进水平；南大光电的28nm光刻胶完成中芯国际批量验证，良率超90%，打破国外垄断。

　　国家支持力度也在不断加大，集成电路产业投资基金三期首期930亿元已到位，全部投向光刻机及核心零部件领域；长三角形成集群式推进格局，打通研发、制造、验证、量产全产业链，让国产化之路走得更扎实。

　　中科大张树辰团队2026年1月提出“芯片自生长”技术，相关成果发表在《自然》杂志封面。这种技术不用光刻机，就能让芯片像晶体一样自动形成电路，理论上线纳米以下，功耗更低。

　　虽仍处于实验室阶段，却为突破光刻机壁垒提供了新可能，印证了我国半导体领域的研发实力。

　　其实两者并不矛盾。我们现在能造的是中低端DUV光刻机，而顶尖EUV需要连美国都没有的核心技术，这些技术需长期积累，短期内难以突破。

　　朱士尧说这话，不是泼冷水，而是提醒大家，科技突破没有捷径，要理性看待研发难度——中国造光刻机，从来不是“能不能”，而是“什么时候”的问题。

　　我们现在的路子很对：先搞定中低端光刻机，解决“有没有”的问题，再逐步攻关核心零部件；同时探索新技术路线，试图绕开光刻机壁垒。

　　等到突破美国都搞不定的核心技术，或全球产业链格局被打破，中国自然能造出顶尖EUV光刻机。

　　说到底，朱士尧的话不是唱衰中国科技，而是对光刻机研发难度和全球产业链现状的理性判断。

　　科技突破从来不是一蹴而就的，需要时间、耐心和全社会支持。只要我们坚持下去，不骄不躁，总有一天能造出顶尖光刻机，实现半导体领域全面自主可控，打破西方技术垄断。